本實用新型涉及一種升降手動裝置，該裝置通過調節加熱盤升降來實現調整兩極板之間的間距，屬于半導體薄膜沉積應用及制造技術領域。
背景技術：
目前，半導體鍍膜設備，尤其是12英時PECVD設備其產品的加熱盤升降調整機構均是由電動滑臺(氣動滑臺)、導軌、波紋鋼管、上下連接法蘭、導向機構、調平機構、密封機構、傳感器和固定架組成。當動力電聯通時，在導向機構的導向下，滑臺上下移動，通過傳感器反饋位置來實現加熱盤升降調整。但是，上述這樣復雜的調整結構，雖然可以滿足調整加熱盤升降的需要，滿足升降位置反饋并調節的需求，但由于設備工作環境一般為400°C以上的高溫，調整和反饋的信號容易受到干擾，維護時需等待設備降溫從而影響到產能，高端電子設備的造價也不容小視，像上述結構的這樣閉環全自動的設計結構并不是完全適應于半導體鍍膜行業現狀。
發明內容
本實用新型的目的是針對上述現有技術的不足，而提供一種占地面積小、結構簡單及調平方便的新型升降手動裝置。為實現上述目的，本實用新型采用下述技術方案升降手動裝置，包括波紋管組件，波紋管組件是由波紋管與上下法蘭通過焊接而成。其上法蘭固定于加熱盤底部，下法蘭壓緊密封圈固定于穩流室底部實現波紋管固定與密封。波紋管組件的下法蘭與導向銅套連接，為整個裝置的豎直方向導向。上述導向銅套與絲母連接，絲母與絲杠配合并通過絲杠固定座、轉動銅套與手柄實現絲杠的平穩旋轉。指針固定于導向銅套上，刻度板環于手柄外圈。當調整加熱盤時，刻度盤可以精確的指示旋轉行程，刻度尺則在數量級上提示上升或下降的位移。在導向銅套的外圍，有和彈簧連接的螺栓，用來微調加熱盤的水平。由于彈簧的自鎖功能，可實現在調整過程中，可調即可見的效果。本實用新型采用簡單可靠的機械傳動機構及直觀可見的刻度盤、刻度尺，來代替現有技術的滑臺與傳感器，其結構簡單明了。并在實現基本功能需求的前提下，即在能完全實現加熱盤的升降調整，極間距調整的基礎上，保證整個機構空間占用小，調平及拆卸維護簡單方便，升降高度反饋直觀可見，成本低廉。適用于科研機構及小型Fab廠所需的經常調整試驗參數，達到反復調整比對實驗結果的目的。
具體實施方式
實施例如圖I和圖2所示，升降手動裝置，包括波紋管組件4，波紋管組件4是由波紋管與上下法蘭通過精密焊接組成。其上法蘭壓緊密封圈3固定于加熱盤I底部，下法蘭壓緊密封圈6固定于穩流室底部實現波紋管固定與密封，波紋管組件4的下法蘭與導向銅套7連接，實現整個裝置的豎直方向導向，導向銅套7與絲母5連接，絲母5與絲杠8配合并通過絲杠固定座10、轉動銅套9與手柄11實現絲杠的平穩旋轉。上述絲杠8為T型結構。指針12固定于導向銅套7上，刻度板2環于手柄11外圈，當調整加熱盤I時，刻度板2可以精確的指示旋轉行程，刻度尺14豎直固定在真空穩流室上，可在數量級上提示上升或下降的位移。在導向銅套7的外圍，有和彈簧13連接的調整螺栓15，用來微調加熱盤I的水平， 由于彈簧13的自鎖功能，可實現在調整過程中，可調即可見的效果。
權利要求
1.一種升降手動裝置，包括波紋管組件，其特征在于波紋管組件是由波紋管與上下法蘭通過焊接而成，其上法蘭固定于加熱盤底部，下法蘭壓緊密封圈固定于穩流室底部實現波紋管固定與密封，波紋管組件的下法蘭與導向銅套連接，為整個裝置的豎直方向導向， 上述導向銅套與絲母連接，絲母與絲杠配合，指針固定于導向銅套上，刻度尺(14)豎直固定在穩流室上，刻度板環于手柄外圈，在導向銅套的外圍設有和彈簧連接的螺栓。
2.如權利要求I所述的升降手動裝置，其特征在于所述的絲杠(8)為T型結構。
專利摘要
升降手動裝置，主要解決了現有的產品結構復雜、造價高等技術問題。該裝置包括波紋管組件，波紋管組件是由波紋管與上下法蘭通過焊接而成。其上法蘭固定于加熱盤底部，下法蘭壓緊密封圈固定于穩流室底部實現波紋管固定與密封。波紋管組件的下法蘭與導向銅套連接，為整個裝置的豎直方向導向。指針固定于導向銅套上，刻度板環于手柄外圈，在導向銅套的外圍設有和彈簧連接的螺栓。本裝置采用簡單可靠的機械傳動機構及直觀可見的刻度盤、刻度尺，來代替現有技術的滑臺與傳感器，其結構簡單明了、拆卸維護方便、成本低廉。適應于科研機構及小型Fab廠所需的經常調整試驗參數，達到反復調整比對實驗結果的目的。
